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什么是水浸超聲C掃描系統?

更新時間:2024-03-01      點擊次數:260
什么是水浸超聲C掃描系統?

    水(shui)浸超聲C掃(sao)描系統是(shi)超聲檢測中的一種,以(yi)水(shui)為介(jie)質(zhi)來進行超(chao)聲(sheng)(sheng)掃(sao)(sao)描(miao)(miao)(miao),因此也叫做(zuo)水(shui)浸超(chao)聲(sheng)(sheng)檢測(ce)、超(chao)聲(sheng)(sheng)水(shui)浸檢測(ce);根據掃(sao)(sao)描(miao)(miao)(miao)介(jie)質(zhi)不同(tong),還有噴水(shui)式超(chao)聲(sheng)(sheng)C掃(sao)(sao)描(miao)(miao)(miao),空氣耦合超(chao)聲(sheng)(sheng)C掃(sao)(sao)描(miao)(miao)(miao)系(xi)統(tong)等。

 

                                全自(zi)動超聲(sheng)C掃描(miao)設備   

 

   根據檢測設備呈現的(de)(de)結(jie)果不同(tong),又分(fen)(fen)為A掃(sao)描(miao)、B掃(sao)描(miao)、C掃(sao)描(miao),其中(zhong)A掃(sao)描(miao)是(shi)(shi)(shi)呈現一個點的(de)(de)波形圖(tu)像,在這(zhe)個監測點,超(chao)(chao)聲從入射(she)到返回這(zhe)個過程(cheng),超(chao)(chao)聲的(de)(de)傳播(bo)過程(cheng)及變化。B掃(sao)描(miao)反應的(de)(de)是(shi)(shi)(shi)樣品(pin)橫斷面上超(chao)(chao)聲的(de)(de)傳播(bo)情況;而C掃(sao)描(miao)是(shi)(shi)(shi)整個掃(sao)描(miao)平面上超(chao)(chao)聲的(de)(de)傳播(bo)和(he)變化情況,通(tong)過閘門設置,獲取特定界面層(ceng)的(de)(de)超(chao)(chao)聲數據,通(tong)過計算機處理(li)分(fen)(fen)析(xi),得到直觀的(de)(de)超(chao)(chao)聲圖(tu)像。隨著超(chao)(chao)聲技(ji)術和(he)計算機技(ji)術的(de)(de)發展(zhan),超(chao)(chao)聲檢測的(de)(de)技(ji)術也越(yue)(yue)來越(yue)(yue)先進(jin),應用(yong)也越(yue)(yue)來越(yue)(yue)廣泛。目前所說的(de)(de)超(chao)(chao)聲C掃(sao),都是(shi)(shi)(shi)指全自動的(de)(de)超(chao)(chao)聲C掃(sao)描(miao)系統。

 

 ;                      ;        超聲C掃描系統界面  

 

    其檢(jian)(jian)測原理是(shi)基于超聲波(bo)(bo)(bo)在(zai)被(bei)檢(jian)(jian)測工件中傳(chuan)播特質,如超聲波(bo)(bo)(bo)在(zai)通過材料傳(chuan)遞過程中能量會(hui)(hui)損失(shi),在(zai)遇(yu)到聲阻抗不同的(de)兩種介質分界層會(hui)(hui)發(fa)生反射(she)等特點(dian)來檢(jian)(jian)測材料內(nei)(nei)部(bu)(bu)缺(que)陷的(de)一(yi)種方法。當超聲波(bo)(bo)(bo)束自超聲探頭穿至材料內(nei)(nei)部(bu)(bu)遇(yu)到缺(que)陷與工件底(di)部(bu)(bu)時(shi)候會(hui)(hui)發(fa)生反射(she)波(bo)(bo)(bo),水浸超聲掃描顯(xian)微鏡通過收(shou)集這(zhe)些(xie)超聲波(bo)(bo)(bo),會(hui)(hui)在(zai)電腦(nao)屏幕上形(xing)(xing)成脈沖波(bo)(bo)(bo)形(xing)(xing),找到缺(que)陷波(bo)(bo)(bo)形(xing)(xing)進行圖像化分析處理,檢(jian)(jian)測結(jie)果為材料內(nei)(nei)部(bu)(bu)截面圖像。


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